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新华社杭州9月2日电(记者张权)国家知识产权局局长沈长宇2月2日在杭州举行的第十届中国知识产权年会上表示,中国将继续坚定不移地实施严格的知识产权保护制度,继续为创新和商业创造良好的环境。

沈长宇表示,中国将对商标侵权行为实施更严格的惩罚性赔偿制度,并加大对恶意注册和囤积商标的打击力度;同时,加快专利法的修改,建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度,延长外观设计专利的保护期,更好地保护专利权。

在审查业务层面,中国将不断提高知识产权审查的质量和效率,提高专利和商标授权的及时性和权利的稳定性,更好地满足社会需求。

近年来,中国知识产权产业发展进入快车道,知识产权创造质量、保护效果、应用效益和国际影响力不断提高:专利和商标年申请量居世界首位;知识产权保护的社会满意度从2012年的63.69分提高到2018年的76.88分;在世界知识产权组织发布的2019年全球创新指数报告中,中国排名第14位,在中等收入经济体中排名第一。

“实施严格的知识产权保护制度,不仅是我们履行国际义务的需要,也是建设创新型国家、实现自身发展的需要。这是中国政府的一贯原则立场和既定政策。”沈长宇说道。

同时,中国将着眼于国际社会,加强知识产权保护的国际合作,加快构建多边、周边、小型多边和双边“四面联动、协调推进”的知识产权国际合作新格局。

据报道,此次年会首次从中国专利信息年会和中国专利年会升级为中国知识产权年会,涵盖了专利、商标、地理标志等多种知识产权,以及运营、服务、权利保护、立法和司法。同期,中国将举办专利信息服务和产品展、商标展和地理标志展,主题为“地域广阔,资源丰富,标志着新的创新”。

[我想纠正错误]负责编辑:史玉妍

标题:优化创新环境和营商环境 我国 将持续加强知识产权保护

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